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光化學反應儀主要特征:
●光源控制器。
●雙層石英冷阱，可通入冷卻水循環(huán)以避免光源溫度過高受損。
●調節(jié)升降臺高度調節(jié)光照強度。
●反光罩可使樣品充分接受光照。
●冷卻水循環(huán)裝置制冷量：800W。
●冷卻水循環(huán)裝置設有底部排液閥。
光化學反應儀技術參數(shù):
★久平光源控制器，可供汞燈（1000W或500W、400W、300W、250W）、氙燈（1000W或500W、300W）、金鹵燈（500W）等多種光源使用。
★雙層石英冷阱，可通入冷卻水循環(huán)以避免光源溫度過高受損
★調節(jié)升降臺高度調節(jié)光照強度。
★ 反光罩可使樣品充分接受光照。
光化學反應儀產(chǎn)品配置：
久平專用光源控制器JP-GHX-XF1：1臺，石英冷阱：1只，燈：1支(汞燈、氙燈、金鹵燈 可選）
反光罩一個，升降臺一個，支架一個，冷卻水循環(huán)裝置：1臺
選配：擋光罩、暗箱